电子用超纯水设备,半导体,集成电路用超纯水系统

●工艺流程

       预处理－一级反渗透－加药机（PH调节）－中间水箱－第二级反渗透（正电荷反渗膜）－中间水箱－EDI装置－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－抛光混床－0.2精密过滤器－用水点（≥18MΩ.CM）(最新工艺)

      预处理－一级反渗透－加药机（PH调节）－中间水箱－第二级反渗透（正电荷反渗膜）－纯水箱－纯水泵－EDI装置－紫外线杀菌器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水点（≥17MΩ.CM）(最新工艺)

      ●标准参考 

     国家电子级超纯水标准

集成电路用超纯水水质

●设备特点

 为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上，取达国家自来水标准的水为源水，设有多介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐系统）、抛光混床系统等。

●应用领域

    •化工材料的生产和加工过程所用的溶剂及清洗过程

    •超纯材料和超纯化学试剂

    •实验室和中试车间

    •电子半导体、集成电路板上用到的化工材

    •石英、硅材料生产、加工、提纯

    •高纯墨水、传真打印机中的喷墨、纳米墨水